Новая литографическая машина Canon бросает вызов ASML
Японский производитель создал литографическую машину, работающую по техпроцессу 5 нм с масштабированием до 2 нм.
Компания Canon представила свою новую литографическую машину FPA-1200NZ2C, предназначенную для создания полупроводниковой продукции по техпроцессу 5 нм с перспективой масштабирования до 2 нм. Литографическая машина Canon относится к категории «nanoimprint lithography» (NIL) и является прямым конкурентом EUV-литографической машины голландской компании ASML.
Наноимпринтная литография радикально отличается от фотолитографии: в оборудовании Canon на кремниемую пластину наносится слой полимера, затем сверху на полимер физически прикладывается маска, после чего ультрафиолет используется для того, чтобы полимер затвердел.
Читайте также
Список возможностей технологий искусственного интеллекта для решения различных задач бизнеса постоянно растет. С одними из них ИИ справляется отлично, с другими — менее результативно. Область, где он уже доказал свою эффективность, — автоматизация рутинных процессов.